印制電路行業(yè)屬于高污染、高用水行業(yè)。當前隨著電子產(chǎn)品的快速發(fā)展，印制電路板行業(yè)的用水量在逐步增加。據(jù)調(diào)查顯示，在生產(chǎn)印制電路板過程中，產(chǎn)生的廢水量從2010年的3.57億噸至4.25億噸，上升到了2015年的7億多噸。如何科學處理好印制電路廢水，已經(jīng)成為印制電路板行業(yè)在以后發(fā)展過程當中需要重點關(guān)注的問題。

　　1、對PCB生產(chǎn)廢水的分類

　　1.1 印制電路廢水水質(zhì)以及來源

　　印制電路板產(chǎn)業(yè)在發(fā)展的過程當中，由于生產(chǎn)工藝流程很長，產(chǎn)生污染物的環(huán)節(jié)也很多，而印制電路板廢水的產(chǎn)生通常主要來自濕法加工工藝。在進行刷版以及化學銅等工序時會產(chǎn)生絡合銅廢水;在進行曝光顯影工序的時候，會產(chǎn)生濃度很高的有機廢水;在進行去膜等工序的過程中，會產(chǎn)生有機廢水;在進行鍍錫以及剝錫的過程中，會產(chǎn)生含錫的廢水;在進行鍍鎳以及鍍金工序的過程中，會產(chǎn)生相應的鎳廢水以及含氰廢水等。

　　1.2 生產(chǎn)廢水的區(qū)分

　　印制電路板在發(fā)展過程中，可以對印制電路板廢水進行科學分類，然后再進行集中處理，這樣能夠有效降低重金屬以及有機物的濃度，從而很好地提升廢水質(zhì)的可生化性處理效率，更加有利于對水資源的回收和再利用。在對廢水進行區(qū)分的時候，可以依據(jù)廢水的來源以及水資源的情況分為混合廢水、綜合廢水、油墨廢水和廢槽料液等。

　　2、廢水分類處理技術(shù)的現(xiàn)狀

　　印制電路板在發(fā)展的過程中，由于印制電路板各種廢水水質(zhì)不一樣，對于廢水處理的難度也有所差異，所以，在對廢水處理的過程當中，一定要依據(jù)科學的方式進行有效處理分類，這樣廢水處理才能達到好的效果。在對刷磨廢水以及濃度較低的重金屬廢水進行處理的過程中，可以采用離子交換法以及生化法等有效處理方法進行預處理，達到相應的標準之后，才能夠重新使用;在對綜合廢水進行處理之后，通常都是用作清洗水;在對含氰含鎳廢水進行處理的過程當中，可以采用沉淀法和電解法的方式進行出鎳。在對絡合銅廢水、油墨廢水進行處理的過程當中，由于廢水當中存在很多絡合態(tài)銅以及難以降解的有機物，采用傳統(tǒng)的處理方式很難將廢水當中的雜質(zhì)處理干凈，嚴重影響了實際處理效果。

　　3、對于印制電路廢水處理的技術(shù)

　　3.1 對于含銀廢水的處理技術(shù)

　　在對印制電路含銀廢水處理的過程當中，含銀廢水在流入含銀收集池以后，通過提升泵把含銀廢水提升到含銀池當中進行相應的預處理，然后經(jīng)過提升泵把含銀廢水導入到序批反應池當中，通過序批反應池把混凝分離，再將處理過的再產(chǎn)出水引入到中轉(zhuǎn)池當中，中轉(zhuǎn)池中的廢水隨后經(jīng)過離子交換系統(tǒng)。在經(jīng)過離子交換系統(tǒng)之后，在把廢水引入到綜合收集池當中進行后續(xù)處理。

　　3.2 樹脂吸附技術(shù)處理含錳廢水

　　吸附：含金屬錳的溶液在流過銨根離子交換柱的時候，二價錳離子就被樹脂吸附下來。銨根離子通過和錳離子反應生成了2(R-NH4)+Mn2+=(R2-Mn)+2NH4+.

　　脫附：樹脂飽和之后，通過采用H2SO4(稀)進行淋洗，此時，錳離子就從樹脂上洗脫下來，從而獲得了Mn2SO(4H)溶液，樹脂轉(zhuǎn)化為H型。獲得部分Mn2SO4溶液(錳離子的含量為15～45g/L，而平均質(zhì)量濃度則大于28g/L)，送到化合工序使用。錳和氫離子反應為(R2-Mn)+2H+=2(R-H)+Mn2+.

　　再生：用稀氨水淋洗樹脂，此時樹脂轉(zhuǎn)化為銨根離子型，在繼續(xù)吸附的過程中，溶液中的氨可以全部被樹脂吸附，從而達到排放的標準。稀氨水可以由液氨以及滲濾液進行稀釋，從而配置稀氨水。

　　酸錳：在脫附之后，溶液中金屬的含量達到28g/L左右，再生后，再生液可以轉(zhuǎn)化成純水。然后再通過調(diào)整工藝條件，這樣就可以對含金屬溶液起到很好的凈化作用，使之符合排放條件。

　　3.3 采用微電解+Fenton法對高濃度有機廢水的處理

　　采用Fenton試劑在處理廢水時，其原理是通過利用Fe2+作為H2O2的催化劑，在反應的過程中，出現(xiàn)了羥基自由基，從而有效降解了廢水中的有機污染物。反應原理如下：亞鐵離子先和過氧化氫反應Fe2++H2O2→Fe3++HO-+OH，然后鐵離子在和過氧化氫反應Fe3++H2O2→Fe2++HO2+H+，后一步則是過氧化氫分