X射線光電子能譜儀(XPS)+餓歇電子能譜儀(AES)

XPS利用光電效應(yīng)的原理，測量X射線激發(fā)出的光電子能量和計(jì)數(shù)，對樣品表面幾個納米深度的范圍內(nèi)進(jìn)行半定量的成分和化學(xué)態(tài)分析；AES利用電子激發(fā)出的俄歇電子，對表面進(jìn)行微區(qū)的成分和化學(xué)態(tài)分析。

測試范圍：

除H和He之外的所有元素

分析深度約5nm(AES約3nm)

檢測下限約0.1%

空間分辨率約30μm(AES約10nm)

服務(wù)項(xiàng)目：

各種固體表面的元素成分

化學(xué)價(jià)態(tài)

分子結(jié)構(gòu)分析

深度剖析

深圳市啟威測標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司提供的專業(yè)、高效、實(shí)惠的分析測試服務(wù)可以幫助客戶節(jié)省昂貴儀器費(fèi)用，管控產(chǎn)品質(zhì)量，分析產(chǎn)品配方及加速產(chǎn)品研發(fā)。

熱分析：DSC、TGA、DSC-TGA、TMA、DMA、旋轉(zhuǎn)流變儀

色譜分析：GPC、GC、 GC-MS、LC、LC-MS

光譜分析：ICP、XRF、FTIR、XRD

核磁分析NMR：¹H、¹³C、²⁹Si 、³¹P、¹⁷O譜

質(zhì)譜分析: 高分辨率、低分辨率質(zhì)譜

粒度分析：馬爾文激光粒度儀、 BET比表面積測試儀

電鏡分析：SEM、TEM、AFM;