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GH698鎳合金鍛件 鍛圓法蘭

單價(jià): 面議
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所在地: 直轄市 上海
有效期至: 長期有效
發(fā)布時(shí)間: 2023-12-16 07:50
最后更新: 2023-12-16 07:50
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發(fā)布企業(yè)資料
詳細(xì)說明
GH4698(GH698)沉淀硬化型變形高溫合金
GH4698是Ni-Cr基沉淀硬化型變形高溫合金,使用溫度750℃~800℃。
該合金是GH4033合金的基礎(chǔ)上發(fā)展而成的,與GH4033合金相比,提高了鋁和鈦含量,添加了鈮和鈦,降低了鉻含量。
合金在550℃~800℃范圍內(nèi)具有高的持久強(qiáng)度和拉伸強(qiáng)度,良好的塑性和綜合性能,及長期使用組織穩(wěn)定。
適合制作發(fā)動(dòng)機(jī)渦lunpan、壓氣機(jī)盤等承載零件。
主要產(chǎn)品有熱軋和鍛制棒材、盤件和環(huán)件。

合金已用于制作航天發(fā)動(dòng)機(jī)渦lunpan、壓氣機(jī)盤、導(dǎo)流片、承力環(huán)和緊固件等,已用于制作艦用燃?xì)廨啓C(jī)大規(guī)格渦lunpan等零件,批產(chǎn)和使用情況良好。

合金經(jīng)650℃~750℃,100h~1000h長期時(shí)效后,組織和性能穩(wěn)定,無有害相析出。

摘自GB/T14992,雜質(zhì)元素分析有區(qū)別的摘自GJB3782、GJB5280、HB5285、Q/GYB05011、Q/GYB05025、Q/GYB05033、Q/GYB665、Q/GYB666和Q/GYB667,見表
元素 C Cr Ni Mo Al Ti Fe Nb B Mg Ce Zr Mn Si P S Cu Bi① Sn① Sb① Pb① As①
ZUI小  13.00  2.80 1.30 2.35  1.80              
ZUI大 0.08 16.00 余 3.20 1.70 2.70 2.00 2.20 0.005 0.008 0.005 0.050 0.40 0.60 0.015 0.007 0.070 0.0001 0.0012 0.0025 0.001 0.0025
1.1.GJB3782、GJB5280、HB5285、Q/GYB05011、Q/GYB05025、Q/GYB05033、Q/GYB665、Q/GYB666和Q/GYB667規(guī)定檢測的雜質(zhì)元素
熱處理制度
摘自HB/Z140、GJB/3782、GJB/5280、HB5285、Q/GYB05011、Q/GYB05025、Q/GYB05033、Q/GYB665、Q/GYB666和Q/GYB667,各品種的標(biāo)準(zhǔn)熱處理制度為:
A航空用鍛件,(1110~1130)℃×(8~8.5)h/AC﹢(990~1010)℃×(4~4.5)h/AC﹢(765~785)℃×(16~16.5)h/AC;
B航空用盤形鍛件,1120℃±10℃×8h/AC﹢1000℃±10℃×4h/AC﹢775℃±10℃×16h/AC;
C航空用緊固件棒材,(1110~1130)℃×8h/AC﹢1000℃±10℃×4h/AC﹢775℃±10℃×16h/AC;
D燃?xì)廨啓C(jī)用熱軋和鍛制棒材、鍛制圓餅、模鍛件,
制度Ⅰ:(1110~1120)℃×8h/AC﹢1000℃±10℃×4h/AC﹢775℃±10℃×16h/AC﹢700℃±10℃×16h/AC;
制度Ⅱ:(1110~1120)℃×8h/AC﹢1000℃±10℃×4h/AC﹢775℃±10℃×16h/AC。
GH698生產(chǎn)工藝:冶煉方面:為了獲得更純凈化的鋼水,減低氣體含量與有害元素含量;同時(shí)由于部分合金中有易yang化元素如Al,Ti等存在,非真空方式冶煉難以控制;更是為了獲得更hao的熱塑性,鎳基耐熱合金,通常采用真空感應(yīng)爐熔煉,甚至用真空感應(yīng)冶煉加真空自耗爐或電渣爐重熔方式進(jìn)行生產(chǎn)。
變形方面:采用鍛造、軋制工藝,對于熱塑性差的合金甚至采用擠壓開坯后軋制或用軟鋼(或不銹鋼)包套直接擠壓工藝。
變形的目的是為了破碎鑄造組織,優(yōu)化微觀組織結(jié)構(gòu)。
鑄造方面:通常用真空感應(yīng)爐熔煉母合金保zheng成分與控制氣體與雜質(zhì)含量,并用真空重熔-精密鑄造法制成零件。
熱處 li fang面:變形合金和部分鑄造合金需進(jìn)行熱處 li,包括固溶處 li、中間處 li和時(shí)效處 li,以Udmet500合金為例,它的熱處 li制度分為四段:固溶處 li,1175℃,2小時(shí),空冷;中間處 li,1080℃,4小時(shí),空冷;一次時(shí)效處 li,843℃,24小時(shí),空冷;二次時(shí)效處 li,760℃,16小時(shí),空冷。
以獲得所要求的組織狀態(tài)和良hao的綜合性能。

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